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产品规格
可售数量： 200件
2331 钽（Ta）靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
钽，金属元素，主要存在于钽铁矿中，同铌共生。钽的硬度适中 ，富有延展性，可以拉成细丝式制薄箔。其热膨胀系数很小。钽有非常出色的化学性质，具有极高的抗腐蚀性。虽然钽的抗腐蚀性很强，但是其抗腐蚀性是由于表面生成稳定的五氧化二钽(Ta2O5)保护膜。无论是在冷和热的条件下，对"王水"都不反应。可用来制造蒸发器皿等，也可做电子管的电极、整流器、电解电容。医疗上用来制成薄片或细线，缝补破坏的组织。
中文名 | 钽 | 熔点 | 2996°C |
化学式 | Ta | 5425°C | |
相对原子质量 | 180.9479 | 密度 | 16.654 g/cm3 |
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位 ，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。
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京迈研2331金属钽靶材（Ta） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
¥ 1000.00 ~ ¥ 1200.00
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200件可售
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