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可售数量: 888台
磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控溅射的原理是,在电场内在叠加一个磁场,这样电子在叠加场内做螺旋运动,行程很长,每个电子电离的气体分子比直流多很多很多,所以可以在低电压下,有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高,所以镀膜的颗粒小,膜层附着力好,靶材的利用率也高。 在直流溅射过程中,样品的温升主要来自于负离子在电场作用下对样品的轰击,在磁控溅射中,负离子都被磁场束缚了,所以基本没有对样品的轰击,所以温升基本没有,很适合温度敏感性的样品制备。
高校小型离子 磁控溅射仪 喷金仪 金银铜铬镍钛镁铜等金属镀膜机
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