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等离子清洗机对工件（生产过程中的电子元器件及其半成品、零部件、基板、印制电路板）表面进行处理，实现分子水平的污渍、沾污去除，提高表面活性的工艺叫做等离子体清洗。其机理主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”，达到去除物体表面污渍的目的，其通常包括无机气体被激发为等离子态、气相物质被吸附在固体表面、被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子、产物分子解析形成气相、反应残余物脱离表面等过程。

等离子体清洗机不分处理对象的基材类型均可进行处理，对金属、半导体、氧化物、有机物和大多数高分子材料也能进行很好的处理，只需要很低的气体流量，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子体清洗机不使用任何化学溶剂，因此基本上无污染物，有利于环境保护。此外，等离子清洗机生产成本低，清洗具有良好的均匀性和重复性、可控性，易实现批量生产。

等离子清洗机在清洗和去污完成后，材料本身的表面性能会得到改善。如提高表面的润湿性、提高产品的粘附性等

等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过等离子清洗机的处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。

等离子清洗机可用于材料清洗、刻蚀、活化和表面准备等，能实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。