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等离子处理机清洗晶圆、光刻胶残留去除
2022-08-01 09:04:34
等离子体清洗机处理芯片和封装载板,不仅可以获得超清洁的焊接表面,还可以大大提高焊接表面的活性,有效防止虚焊,减少空洞,提高填料的边缘高度和包容性,提高封装的机械强度,减少不同材料的热膨胀系数在界面之间形成的内应剪切力,提高产品的可靠性和使用寿命。

等离子体清洗机在处理晶圆表面光刻胶时,等离子表面清洗能够去除表面光刻胶和其余有机物,也可以通过等离子活化和粗化作用,对晶圆表面进行处理,能有效提高其表面浸润性。相比于传统的湿式化学方法,等离子体清洗机干式处理的可控性更强,一致性更好,并且对基体没有损害。

等离子清洗机应用于各种各样的刻蚀、灰化、和减压步骤。其它的等离子工艺包括污染去除、表面粗糙化、增加润湿性,以及提高焊接和粘接强度。

晶圆清洁 - 等离子清洗机用于在晶圆凸点工艺前去除污染,还可以去除有机污染、去除氟和其它卤素污染、去除金属和金属氧化。等离子也可以改善旋涂膜粘接和清洁金属焊盘。
晶圆刻蚀 - 等离子清洗机预处理晶圆的残留光刻胶和BCB,重新分配图形介电层,线条/光刻胶刻蚀,应用于晶圆材料的附着力增强,去除多余的塑封材料/环氧树脂,增强金焊料凸点的附着力,晶圆减压减少破碎,提高旋涂膜附着力,清洁铝焊盘。
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