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在电子行业蓬勃发展的今天，我们的生活离不开电子产品，这样也就加大了人们对于电子产品的需求量，也使得芯片产业需求开始膨胀。那么，在芯片产出中所需的超纯水，又是如何制备的呢？今天我们就来一起了解一下。

这种超纯水一般是指经过净化后的水，电阻率达到18.25 MΩ*cm以上的水。这种水中除了氢氧离子外，几乎不含任何物质，非常适用于芯片生产清洗用水。

制备超纯水的工艺主要以树脂法结合膜法工艺进行处理，前段软化能够将水中钙镁等硬度离子以及水中的其他高价金属离子进行交换去除，可保证软化出水指标中，钙离子的含量小于0.2ppm。

去除硬度离子主要采用的便是膜法技术，这种膜法去除硬度效果佳，主要是以纳滤膜分盐为基础。在水中有各类阴阳离子存在，纳滤膜元件本身的分离特性可以很好的区分低价盐和高价盐，在纳滤分离后产液中的水质硬度离子去除率可达75-85%，满足后续处理需求，有效提高超纯水品质。膜法除硬实现了再生剂的“零添加”，大大降低了高氯废水的排放量。

纳滤膜法除硬，还具有自动化程度高、运行维护成本低、产水稳定等优势。并且应用纳滤膜法除硬，膜浓水电导率提升不大，可以直接排放，无需进行额外处理。

我们不难看出，纳滤膜在超纯水制备工艺中主要功效为去除硬度，并且去除效果显著，优势良多。这种膜法技术的应用从长期成本和运行成本的角度上来说，是非常值得推行应用的。