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(1)离子刻蚀

    它是由能量为0.5~5KeV，直径为十分之儿纳米的氮离子轰击工件，将工件表层的原子逐个剥离的。这种加工本质上属于一种原子尺度上的切削加工，因而也称为离子铣削。这就是近代发展起来的毫微米加工工艺。

 (2)离子溅射沉积

    离子溅射沉积本质上是一种镀膜加工。它也是采用0.5一5KeV的氢离子轰击靶材，并将靶材上的原子击出，沉积在靶材附近的工件上，使工件表面镀上一层薄膜

    (3)离子镀膜

    离子镀膜也称离子溅射辅助沉积，同徉属于一种镀膜加工。它将0.5-- 5Ke V的氢离子分成两束，同时轰击靶材和工件表面，以增强膜材与工件基材之间的结合力。

  4)离子注入

    离子注入时的能量比镀膜时大得多，它采用5^}500KeV能量的离子束，直接轰击被加工材料。在如此大的能量驱动下，离子能够钻入材料表层，从而达到改变材料化学成分的目的。人们可以根据不同的目的选用不同的注入离子，如磷、硼、碳、氮等，以实现材料的表面改性处理。但由干离子束加工的成套设备费用高，加工效率低，其应用亦受到一定限制。