【上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发】价格_批发_厂家_参数_图片_真空镀膜加工

1/1

上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发

¥300.00

1-9片

¥100.00

≥10片

产品规格

可售数量： 56800片

振卡（上海）实业发展有限公司

11年

经营年限

上海

所在地区

6.4

综合评分

全部产品进入店铺

图文详情

产品属性

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜，广泛应用于酞阳能、LCD、TP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式，

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多，高端TFT-LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、住友、日本能源、三井,日矿金属，韩国三星康宁等公司

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt) 其他比例以客户要求为准

相对密度: 99.5（理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99

尺寸规格:依据客户要求为准

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99以上,主要杂质元素Cu、Fe、Pb、Si、Ni分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm。

2)相对密度:相对密度要求在99.5以上,密度均匀度偏差

0.15。

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3相,

Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:

120MPa。

上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发示例图1

工件材质氧化因锡

电镀类型镀锡加工

打样周期 4-7天

加工周期 4-7天

年加工能力 100000

年剩余加工能力 50000

规格圆片、方形、板材、颗粒

品牌 Zenkaan

好货推荐

上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发

¥100.00

店铺

联系

在线咨询

发现更多好货

真空镀膜加工 uv镀真空镀膜加工 uv真空镀膜加工真空镀加工真空离子镀膜加工玻璃真空镀膜加工真空镀膜加工塑料塑料真空镀膜加工电镀加工真空镀镀钛加工真空镀真空镀铝加工真空电镀加工

振卡（上海）... 上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发

网站也是有底线的

联系电话

13564135680
021-60778757