【上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发】价格_批发_厂家_参数_图片_真空镀膜加工

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上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发

¥300.00

1-9片

¥100.00

≥10片

产品规格

可售数量： 56800片

振卡（上海）实业发展有限公司

12年

经营年限

上海

所在地区

4.9

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产品属性

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜，广泛应用于酞阳能、LCD、TP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式，

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多，高端TFT-LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、住友、日本能源、三井,日矿金属，韩国三星康宁等公司

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt) 其他比例以客户要求为准

相对密度: 99.5（理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99

尺寸规格:依据客户要求为准

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99以上,主要杂质元素Cu、Fe、Pb、Si、Ni分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm。

2)相对密度:相对密度要求在99.5以上,密度均匀度偏差

0.15。

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3相,

Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:

120MPa。

上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发示例图1

工件材质氧化因锡

电镀类型镀锡加工

打样周期 4-7天

加工周期 4-7天

年加工能力 100000

年剩余加工能力 50000

规格圆片、方形、板材、颗粒

品牌 Zenkaan

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