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¥ 16.80万
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可售数量： 100台
| 台式全谱直读光谱仪 | |
RY-9000型全谱直读光谱仪应用领域：冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。 可检测基体 铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。 主要技术参数 v 光学系统：帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统 v 波长范围：140680nm v 光栅焦距：401mm v 探 测 器：高性能CMOS阵列/CCD阵列 v 光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS） v 放电频率：100-1000Hz v 放电电流： 500A v 工作电源：AC220V 50/60Hz 1000W v 仪器尺寸：780565360mm v 仪器重量：78kg v 检测时间：依据样品类型而定，一般20S左右 v 电极类型：钨材喷射电极 v 分析间隙：4mm v 其他功能：真空，温度，软件自动控制；压力，通讯监测 主要特点 v 高性能光学系统 采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量；测定结果精准，重复性及长期稳定性 。 v 自动光路校准 自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作； 仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。 v 插拔式透镜设计 真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。 v 真空防返油技术 多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离；中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。 开放式激发台 开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；配合使用小样品夹具，线材 低分析可达到3mm。 v 喷射电极技术 采用国际喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；配上独特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。 v 集成气路模块 气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。 v 数字化激发光源 数字激发光源，采用国际等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品；可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。 v 高速数据采集 仪器采用高性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。 以酞数据传输 计算机和光谱仪之间使用以酞网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机完全外置，方便升级和更换；可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。 备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择 测试条件。 v 分析速度快 分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用 短时间达到 的分析效果。 v 多基体分析 光路设计采用罗兰圆结构，检测器上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析；便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素（无硬件成本）。 v 软件中英文系统 仪器软件操作简单，完全兼容于Windows7/8/10系统。 南京润宇分析仪器制造有限公司市场部 孔先生 |
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13770876988
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025-57889018
润宇RY型光谱分析仪
¥ 16.80万
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100台可售
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