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高纯硼靶材硼颗粒氮化硼靶材陶瓷溅射靶材

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产品规格

可售数量： 100片

北京金源新材科技有限公司

13年

经营年限

北京

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5.8

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产品属性

金属溅射靶材

B ：高纯硼靶材 纯度99.9

原子量： 10.811

熔点：2075

沸点：2550

密度：2.34

我公司采用3N硼为原料制作溅射靶材，可用于耐高温合金工业，半导体材料，核化学中用作种子吸收剂。

B靶材111.jpg B靶材211.jpg B靶材311.jpg 硼颗粒311.jpg 氮化硼靶材111.jpg

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