刻线衍射光栅，UV反射式”参数说明

“刻线衍射光栅，UV反射式”详细介绍

刻线衍射光栅，UV反射式基本介绍

刻线衍射光栅，UV反射式QXKJ提供用于300 nm左右紫外区域的刻线衍射光栅。这些光栅在300 nm闪耀波长下具有相对尖锐的效率峰值，并且由刻线的基底材料生产。

刻线衍射光栅，UV反射式性能特点

特性

· 闪耀波长300 nm

· 在闪耀波长下光栅效率高达60%到80%

· 低鬼影：小于主反射的0.5%

· 反射铝膜

· 钠钙玻璃基底，300到1200刻线/mm

· 使用刻线的基底材料生产

刻线衍射光栅，UV反射式技术参数

刻线衍射光栅，UV反射式使用说明

我们提供不同闪耀角的光栅，满足需要重点考虑效率的多种光谱学和分析应用。需要更多信息请点击上方光栅教程标签。我们还提供全息光栅，它们不会产生鬼影效应，但是效率 低。

请注意，这些光栅的反射铝膜是 的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能 ，而MgF2膜提供 保护性；详情请咨询技术支持

刻线衍射光栅，UV反射式采购须知

注意

光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮 扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。