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刻线衍射光栅,MIR反射式

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可售数量: 99台

8年

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吉林长春

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4.7

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产品属性

刻线衍射光栅,MIR反射式”参数说明

型号:Qx-mir-gl规格:12.5 mm X 25.0 mm X
商标:一博包装:硬塑
设计波长:3.1刻线数:800

“刻线衍射光栅,MIR反射式”详细介绍

刻线衍射光栅,MIR反射式基本介绍

QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅,适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异,

刻线衍射光栅,MIR反射式性能特点

特性

· 设计波长:3.1 µm、3.5 µm、10.6 µm

· 设计波长处的偏振效率:80%到95%

· 低重影:小于主反射的0.5%

· 反射铝膜

· Pyrex基底,75到450刻线/mm

· 使用刻线的基底材料生产

· 损伤阈值:

o 连续波激光:250 W/cm2

o 脉冲激光器:3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)

刻线衍射光栅,MIR反射式技术参数

反射式衍射光栅,设计波长3.1 µm

Dimensions (W x H x D)

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

3.1 µm

450

32°

1.6 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

反射式衍射光栅,设计波长3.5 µm

Dimensions (W x H x D)

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

3.5 µm

300

26.5°

2.86 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

 反射式衍射光栅,设计波长10.6 µm

Dimensions (W x H x D)

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

10.6 µm

75

21°

12.3 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

100

27°

8.5 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

150

35°

4.2 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

刻线衍射光栅,MIR反射式使用说明

注意

光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取,而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套,以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮 扫光栅,其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。

刻线衍射光栅,MIR反射式采购须知

这些光栅用于在常见分子激光波长下获得峰值偏振效率,因此与标准的刻划衍射光栅(紫外、可见和近红外刻划光栅)不同。对于这些光栅,凹槽闪耀角不等同于Littrow配置角,后者优化了光栅效率,用于非偏振光。因此,Littrow配置的反射光栅的标准公式也不再适用。

请注意,这些光栅的反射铝膜是 的,而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能 ,而MgF2膜提供 保护性;详情请咨询技术支持。


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