【铜钽铝钛钴钨高纯金属靶材半导体生产用溅射靶材导体芯片离子溅射气相沉积靶材】价格_批发_厂家_参数_图片_能源产品加工

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铜钽铝钛钴钨高纯金属靶材半导体生产用溅射靶材导体芯片离子溅射气相沉积靶材

¥500.00

1-49件

¥480.00

≥50件

产品规格

可售数量： 1000000件

清河县超耐金属材料有限公司

5年

经营年限

河北邢台

所在地区

7.1

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产品属性

铜、钽、铝、钛、钴、钨、钼、铌等，高纯金属靶材半导体生产用溅射靶材导体芯片离子溅射气相沉积靶材，高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理-气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料。

加工产品种类高纯靶材

主要加工设备纯靶材

加工高纯靶材 99.99%

钨靶材 99.9%

钼靶材 99.999%

钽靶材 99.9999%

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