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韶关市金源金属材料有限公司
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锗是一种重要的半导体材料,用于制造晶体管及各种电子装置,是 代晶体管材料。锗在红外光学领域的年消费量占所有领域消费量的20-30%,主要作为红外光学系统中的透镜、棱镜、窗口、滤光片等的光学材料。近些年,在红外光学和半导体材料的强劲需求刺激下,我国锗生产技术能力提升迅速,目前国内企业已经能够生产光纤级、红外级、太阳能级锗系列产品。
本发明锗单晶的生长方法与提拉法有相似之处,例如均可观察晶体生长情况、晶体生长过程中均保持提拉状态、坩埚不与晶体接触,避免了寄生成核等。
除此之外,本方法还有如下优点:1、降温时,晶体不被拉出坩埚,应力更小,有利于提高晶体尺寸;2、晶体的温度梯度小,有利于减少晶体应力,提高晶体质量;3、晶体的拉速较慢,机械扰动较小,有利于提高晶体质量;4、晶体的生长界面为凸界面,有利于排杂;5、晶体生长结束后,引晶部分和坩埚内余料中杂质较多,需要回收,其余部位的晶体具有较高的纯度,晶体的利用率高。
本发明锗单晶的生长方法,具有晶体尺寸大、结晶性能良好、无开裂、多晶等缺陷,成品率较高等优点,推广该方法,能产生显著的经济效益。金源诚信为王一手高价昆明回收锗 锗锭锗粉
金源诚信为王一手高价昆明回收锗 锗锭锗粉将100kg原料放入直径300mm,高度320mm的圆柱状石墨坩埚中,置石墨坩埚于单晶炉内,单晶炉内有石墨发热体和碳毡,将单晶炉内抽真空至气压值为0.0001Pa。单晶炉内温场温度梯度为5℃/cm。籽晶、籽晶杆、提拉电机、称重传感器相连,并通过称重传感器控制晶体生长速度,在真空氛围下利用籽晶在一定的温场梯度下经过引晶过程、放肩过程、等径生长过程、收尾过程、降温过程形成锗单晶。引晶过程中,控制晶体拉速为10mm/h;控制晶体生长速度为30g/h;晶体直径为30mm,引晶阶段晶体总重量为原料总重的1%。放肩过程中,维持拉速在0.3mm/h;控制晶体生长速度由30g/h逐步增加到2000g/h;晶体直径放大到与坩埚尺寸相近,但不与坩埚接触;籽晶与肩部的夹角为60°。等径过程中,维持拉速在0.3mm/h;控制晶体生长速度为2000g/h。当晶体重量与原料的量之差小于2kg时,进入收尾阶段,并且手动控制拉速,拉速在100mm/h。降温时拉速为0,降温速率为20℃/h。
金源一手厂家待人以诚昆明回收锗 单晶锗 锗片目前锗单晶的生长方法主要有单晶提拉法、水平布里奇曼法和VGF法三种。其中,单晶提拉法是 常用的锗单晶生长方法,具有长晶过程可视化、成品率高、晶体生长自动化程度高、晶体与坩埚不接触,避免了坩埚寄生成核等缺陷的产生。但同时,提拉法要求坩埚直径在晶体直径的2倍以上。因此,提拉法难以生长具有较大尺寸的锗单晶。水平布里奇曼法具有晶体生长速度快、成本低等优点,但由于晶体为D型,利用率低,难以生长较大尺寸的锗单晶。VGF法的晶体直径与坩埚相同,理论上可以生长较大尺寸的锗单晶。但这种方法坩埚与晶体相接处,容易寄生成核,此外,VGF法生长的晶体多为凹界面,难以保证晶体成品率。将10kg原料放入直径100mm,高度300mm的圆柱状石墨坩埚中,置石墨坩埚于单晶炉内,单晶炉内有石墨发热体和碳毡。将单晶炉内抽真空至气压值为0.0005Pa。单晶炉内温场温度梯度为2℃/cm。籽晶、籽晶杆、提拉电机、称重传感器相连,并通过称重传感器控制晶体生长速度。在真空氛围下利用籽晶在一定的温场梯度下经过引晶过程、放肩过程、等径生长过程、收尾过程、降温过程形成锗单晶。引晶过程中,控制晶体拉速为5mm/h;控制晶体生长速度为10g/h;晶体直径为20mm,引晶阶段晶体总重量为原料总重的0.5%。放肩过程中,维持拉速在0.1mm/h;控制晶体生长速度由10g/h逐步增加到500g/h;晶体直径放大到与坩埚尺寸相近,但不与坩埚接触;籽晶与肩部的夹角为80°。等径过程中,维持拉速在0.1mm/h;控制晶体生长速度为500g/h。当晶体重量与原料的量之差为250g时,进入收尾阶段,并且手动控制拉速,拉速在10mm/h。降温时拉速为0,降温速率为50℃/h。
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