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制法：
工业生产有坩埚直拉法和悬浮区熔匀平法。
1．坩埚直拉法：拉晶前先将设备各部件、合金石英坩埚、高纯锗锭和籽晶进行清洁处理。将高纯锗经配料和掺杂，加入单晶炉的合金石英坩埚中，再经抽真空、熔化，在流通的氩气气氛下，人工引晶放肩和收尾。晶体的等径生长过程中，控制拉速、坩埚和籽晶转速等措施，以及自动控制炉温和单晶直径等技术使其获得直径均匀的产品。经检测、称量，制得锗单晶成品。
2．悬浮区熔匀平法：所用的炉子为水平式石英管加热炉，能生产电阻率均匀的锗单晶。
用途：
制造半导体器件用。在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等，得到p型锗；掺入五价元素如锑、砷、磷等，得到n型锗。锗在电子工业中的用途，已逐渐被硅代替。但由于锗的电子和空穴迁移率较硅高，在高速开关电路方面，锗比硅的性能好。锗在红外器件、γ 探测器方面，有新的用途。
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