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高校实验室小型离子磁控溅射仪 喷金仪 激光冷却磁控溅射膜 金银铜铬镍钛镁铜等金属

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可售数量: 888台

8年

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河南郑州

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磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控溅射的原理是,在电场内在叠加一个磁场,这样电子在叠加场内做螺旋运动,行程很长,每个电子电离的气体分子比直流多很多很多,所以可以在低电压下,有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高,所以镀膜的颗粒小,膜层附着力好,靶材的利用率也高。   在直流溅射过程中,样品的温升主要来自于负离子在电场作用下对样品的轰击,在磁控溅射中,负离子都被磁场束缚了,所以基本没有对样品的轰击,所以温升基本没有,很适合温度敏感性的样品制备。

品牌 郑科探
规格
类型 教学实验
型号 KT-Z1605CVD
控制方式 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
工作电源 直流溅射电源
镀膜功能 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品
功率 ≤1000W
输出电压电流 电压≤1000V 电流≤500mA
真空 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤
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