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小型台式直流磁控膜厚可控溅射仪 功率可控磁控溅射仪 离子溅射镀膜机

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¥ 38600.00

1台起订

产品规格

可售数量: 888台

8年

经营年限

河南郑州

所在地区

7.5

综合评分

图文详情
产品属性

小型溅射仪

KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。

小型溅射仪(Sputtering System)是一种利用溅射技术制备薄膜的设备,主要用于制备和研究金属、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。

它通常由四个主要组件组成:真空室、溅射腔体、靶材和控制系统。真空室是封闭的金属或玻璃盒子,用于维持真空环境,以避免杂质和气体干扰制备过程。溅射 是用于向靶材表面发射离子的设备,它可以控制溅射速率和角度,从而控制薄膜的厚度和均匀性。靶材是被准备薄膜所需的原材料,其材料和形状根据要制备的薄膜类型而变化。控制系统是用于控制整个设备的电子和电气系统,包括真空泵、用于创建和维持真空的电子控制器和电源、溅射 

控制器和监控器等。

小型溅射仪通常用于研究实验室或小批量生产,它具有制备稳定、纯净、均匀膜的优点,可以制备几纳米到数百纳米之间的薄膜。它也被广泛应用于电子器件、太阳能电池、显示器件、硬盘驱动器等领域。



 

设备名称

小型溅射仪

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

工作电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤500mA

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)     分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤10Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装   测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口      KF16放气口   6mm卡套进气口



 


规格
类型 真空仪器与装置
品牌 郑科探
型号 KT-Z1650PVD
保修 一年
真空 机械泵 ≤5Pa(5分钟)
样品台转速 8转/分钟
输出电压电流 电压≤1000V 电流≤500mA
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