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可售数量: 100千克
六羰基铬可作为薄膜沉积前驱体,采用激光化学气相沉积方法(LCVD)制备薄膜,可用于大规模集成电路光掩膜版透明缺陷维修。
六羰基铬Chromium hexacarbonyl
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六羰基铬可作为薄膜沉积前驱体,采用激光化学气相沉积方法(LCVD)制备薄膜,可用于大规模集成电路光掩膜版透明缺陷维修。
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