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半导体材料清洗会使用到超纯水,这是为了充分保障半导体的物理化学性质稳定,不受颗粒物、金属氧化物、灰尘污垢等杂质的污染,以此来维持其良好的功能。超纯水纯度高,基本不含有除氢原子和氧原子之外的任何细菌、有机物、无机盐等杂质,因而是清洗半导体的理想工具。
采用EDI超纯水设备可以生产出质量可靠稳定的超纯水,该设备主要采用了反渗透+EDI+抛光混床技术,能根据不同用户对水质的不同需求定制设计。它具有出水水质稳定、操作简便、运行成本低、绿色环保、易于维护等优点。
南京半导体行业超纯水系统 莱特莱德EDI超纯水系统工艺原理
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