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¥ 15.39万
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产品规格
可售数量： 20台
制冷加热控温系统
控温范围：-120°C ~ +300°C
特点：不仅可以控制导热介质温度，还可以控制反应物料温度
应用：各种反应器（微通道、玻璃、夹套反应器等）、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、汽车工业、半导体和电气测试、化学、制药、石化、生化、研发车间、航空航天和生物等行业。
| 型号 | SUNDI-320 | SUNDI-420W | SUNDI-430W | |
| 介质温度范围 | -30℃～180℃ | -38℃～180℃ | -40℃～200℃ | |
| 控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器 | |||
| 温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | |||
| 温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | |||
| 程序编辑 | 可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤 | |||
| 通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | |||
| 物料温度反馈 | PT100 | |||
| 温度反馈 | 设备进口温度、设备出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度 | |||
| 导热介质温控精度 | ±0.5℃ | |||
| 反应物料温控精度 | ±1℃ | |||
| 加热功率 | 2kW | 2kW | 3kW | |
| 制冷能力 | 180℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW |
| 50℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| 0℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| -5℃ | 0.9kW | 1.2kW | 2kW | |
| -20℃ | 0.6kW | 1kW | 1.5kW | |
| -35℃ | 0.3kW | 0.5kW | ||
| 循环泵流量、压力 | max10L/min 0.8bar | max10L/min 0.8bar | max20L/min 1bar | |
| 压缩机 | 泰康/思科普 | |||
| 节流方式 | 电子膨胀阀 | |||
| 蒸发器 | 板式换热器 | |||
| 操作面板 | 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录 | |||
| 安全防护 | 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | |||
| 密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。 | |||
| 制冷剂 | R-404A/R507C | |||
| 接口尺寸 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG1/2 | |
| 水冷型 W 温度 20度 | 800L/H 1.5bar~4bar ZG1/2 | 800L/H 1.5bar~4bar ZG1/2 | ||
| 外型尺寸 cm | 35*56*75 | 40*70*130 | 40*70*130 | |
| 标配重量kg | 55kg | 60kg | 85kg | |
| 电源 | AC 220V 50HZ 2.9kW（max) | AC220V 50HZ 3.3kW（max) | AC380V 50HZ 5kW（max) | |
| 外壳材质 | 冷轧板喷塑 （标准颜色7035） | |||
| 选配 | 可选配以太网接口，配置电脑操作软件 | |||
| 选配 | 选配外置触摸屏控制器，通信线距离10M | |||
| 选配电源 | 100V 50HZ单相，110V 60HZ 单相，230V 60HZ 单相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相 | |||
| 选配 | 加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃，物料控温精度±0.1℃ | |||
在现代半导体行业中，冷热循环试验机通过准确控制温度环境，为半导体制造过程中的多个关键环节提供必要的温度保障，从而确保产品的质量和性能。
一、冷热循环试验机的基本工作原理
冷热循环试验机是一种集制冷和加热功能于一体的设备，能够提供稳定的高温和低温环境，满足半导体制造过程中复杂多变的温度需求，为半导体器件的研发、生产和测试提供了可靠的保障。
二、冷热循环试验机在半导体制程中的应用
1. 薄膜生长
在半导体制程中，冷热循环试验机能够为薄膜生长提供所需的准确温度环境，促进材料的化学反应，从而生长出高质量的薄膜。通过准确控制温度，可以优化薄膜的生长条件，提高薄膜的均匀性和致密性，进而提升半导体器件的整体性能。
2. 热处理
半导体材料在制程过程中需要进行多种热处理，如退火、氧化等。这些过程对温度的要求非常严格，稍有偏差就可能导致材料性能下降或器件失效。冷热循环试验机能够提供稳定的温度环境，确保热处理过程的顺利进行。例如，在氧化过程中，通过准确控制温度，可以形成致密的二氧化硅层，有效保护晶圆表面，防止化学杂质和漏电流的影响。
3. 掺杂工艺
掺杂是半导体制程中的环节之一，通过向材料中引入特定的杂质来改变其电学性质。冷热循环试验机能够为掺杂工艺提供准确的温度控制，确保杂质能够均匀地分布在材料中，从而获得理想的掺杂效果。准确的温度控制可以避免掺杂不均匀导致的器件性能波动，提高产品的稳定性和可靠性。
4. 清洗与刻蚀
在半导体制程中，清洗和刻蚀是去除表面污物和不需要材料的步骤。冷热循环试验机能够为这些工艺提供适当的温度环境，提高清洗和刻蚀的效果。适当的温度可以促进清洗剂和刻蚀剂的化学反应，加速污物和不需要材料的去除，从而保证半导体器件的清洁度和精度。
三、冷热循环试验机的主要特点
1. 运行稳定
冷热循环试验机采用冠亚制冷的温控系统和结构设计，确保了设备的稳定运行。它能够快速升温或降温，满足半导体制造过程中快速变温的需求，提高加工效率。
2. 准确控温
通过高灵敏度的温度传感器和精炼的温控系统，冷热循环试验机能够实现对温度的准确调节。这确保了半导体器件在制造过程中始终处于适合的温度环境，提高了产品的质量和稳定性。
综上所述，冷热循环试验机在半导体制程中发挥着作用，通过准确控制温度环境，为薄膜生长、热处理、掺杂工艺以及清洗与刻蚀等关键环节提供了必要的保障。
反应釜加热控温机 化工用冷热一体机
¥ 15.39万
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