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可售数量： 20台
晶圆制造是半导体行业的核心环节，其过程对温度控制的要求高。晶圆制造领域控温Chiller作为晶圆制造领域的配套使用的控温设备，对保证产品质量和生产效率起着一定作用。
一、晶圆制造过程简介
晶圆制造涉及多个复杂步骤，包括光刻、蚀刻、扩散、离子注入等。这些步骤都需要在控制的温度条件下进行，以确保晶圆上的微电路图案准确无误。温度的微小变化都可能导致产品性能的大幅下降，甚至造成生产失败。
二、Chiller的作用与重要性
晶圆制造领域控温Chiller的主要作用是通过循环冷却水来维持晶圆制造设备的温度稳定。在光刻过程中，Chiller通过控制光刻胶的温度，保持其黏度和挥发速率的稳定，减少线宽偏差。同时，晶圆制造领域控温Chiller还能控制光学系统的热变形，降低像差。
1、稳定光刻胶性能，Chiller能够维持光刻胶温度在很小的范围内，避免温度波动导致光刻胶黏度变化或溶剂挥发速率异常。
2、控制光学系统热变形，通过循环冷却水导出热量，确保光学系统形变量控制在0.1nm以内，降低像差。
3、优化工艺窗口，通过调节光刻机内部环境温度，间接控制光刻胶的曝光度，扩大焦深范围。
4、动态响应与异常防控，采用PID算法与变频压缩机的Chiller，可在短时间内响应光刻机的瞬时热量激增，缩短温度恢复时间。
三、Chiller的技术特点
具有高精度温度控制，晶圆制造领域控温Chiller能够实现很小的温度波动控制，满足晶圆制造对温度精度的严苛要求。设备的稳定性和可靠性有助于维持晶圆制造过程中的温度稳定性。
随着半导体技术的不断进步，对Chiller的性能要求也在不断提高。未来的Chiller需要具备更高的温度控制精度、更快的响应速度以及更强的适应性。Chiller在晶圆制造领域不仅能够提高产品质量和生产效率，还能够降低影响。随着技术的不断发展，晶圆制造领域控温Chiller将继续在半导体制造领域发挥其作用，并推动发展。
半导体晶圆制造用Chiller丨光刻机温控0.1℃
¥ 12.66万
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