镍溅射靶材 纯度99.5%以上(3N-3N5-5
黄金靶 高纯度溅射靶材99.99%（4N）圆靶方
铜溅射靶材Cu 高致密高纯铜靶 真空PVD镀膜靶
高纯度铜靶(Cu)溅射靶材 纯度99.9%以上(
高纯度锆溅射靶材 纯度99.5%以上(2N5-3
高纯钛铝溅射靶材 纯度99.99%以上(3N)
高纯铜靶材99.99‑99.999% 磁控溅射靶
溅射镀膜用铌靶材,铌合金靶材,耐热、耐腐蚀高导电
京迈研 2325 铝靶材（Al） 磁控溅射靶
京迈研2317 钙靶材（Ca） 磁控溅射靶材
京迈研2332 铅靶材 （Pb）磁控溅射靶材
京迈研2302 镓靶材（Ga） 磁控溅射靶材
京迈研2309 镉靶材（Cd） 磁控溅射靶材
高纯铜靶材99.99% 磁控溅射Cu靶 无氧铜平
4N-5N高纯铜靶材 磁控溅射靶 科研实验镀膜铜
无氧铜靶材TU1 磁控溅射镀膜靶材 半导体导电薄
供应铟锭 苏州昆山厂家回收铟 In 铟靶 铟合金
高纯度钇靶材(Y)溅射 纯度99.5%以上(2N
高纯8寸钛靶(Ti)溅射靶材纯度99%以上(2N
京迈研2320 钾靶材（K） 磁控溅射靶材 电
京迈研2314 锆靶材 （Zr）磁控溅射靶材
京迈研3556 IWO靶材 磁控溅射靶材 电
京迈研3542 Li3PO4靶材 磁控溅射靶材
京迈研3543 LiFePO4 靶材 磁控
高纯度铬溅射靶材(Cr) 纯度99.5%以上(2
京迈研2327 金属镍靶材（Ni）磁控溅射靶
京迈研2352 金属砷靶材（As） 磁控溅射
京迈研 2304锂靶材金属（Li） 磁控溅射靶材
京迈研2324 金属铪靶材（Hf） 磁控溅射靶
京迈研2305 金属铜靶材（Cu）磁控溅射靶
京迈研2307 金属锑靶材（Sb） 磁控溅射靶
京迈研2301 金属铍靶材（Be）磁控溅射靶材
京迈研2330金属锗靶材(Ge) 磁控溅射靶材
京迈研2329 金属锌靶材（Zn） 磁控溅射靶材
京迈研 2306 金属镁靶材（Mg） 磁控溅射
京迈研2316 金属铟靶材（In） 磁控溅射靶
京迈研2308 金属锰靶材（Mn） 磁控溅射靶
京迈研2319 金属钨靶材（W）磁控溅射靶材
京迈研2303 金属钼靶材（Mo） 磁控溅射
