镍溅射靶材 纯度99.5%以上(3N-3N5-5
黄金靶 高纯度溅射靶材99.99%（4N）圆靶方
铜溅射靶材Cu 高致密高纯铜靶 真空PVD镀膜靶
高纯度铜靶(Cu)溅射靶材 纯度99.9%以上(
高纯度锆溅射靶材 纯度99.5%以上(2N5-3
高纯钛铝溅射靶材 纯度99.99%以上(3N)
高纯铜靶材99.99‑99.999% 磁控溅射靶
溅射镀膜用铌靶材,铌合金靶材,耐热、耐腐蚀高导电
京迈研 2325 铝靶材（Al） 磁控溅射靶
京迈研2317 钙靶材（Ca） 磁控溅射靶材
京迈研2332 铅靶材 （Pb）磁控溅射靶材
京迈研2302 镓靶材（Ga） 磁控溅射靶材
京迈研2309 镉靶材（Cd） 磁控溅射靶材
高纯铜靶材99.99% 磁控溅射Cu靶 无氧铜平
高纯无氧铜溅射靶材 高致密铜靶 芯片面板真空镀膜
旋转铜靶 平面铜靶材 真空溅射靶材 显示面板半导
高纯铜靶材99.99%‑99.999% 磁控溅射
4N-5N高纯铜靶材 磁控溅射靶 科研实验镀膜铜
无氧铜靶材TU1 磁控溅射镀膜靶材 半导体导电薄
无氧铜溅射靶材TU1 高致密铜靶 科研实验芯片导
高纯度钇靶材(Y)溅射 纯度99.5%以上(2N
高纯8寸钛靶(Ti)溅射靶材纯度99%以上(2N
京迈研2320 钾靶材（K） 磁控溅射靶材 电
京迈研2314 锆靶材 （Zr）磁控溅射靶材
京迈研3556 IWO靶材 磁控溅射靶材 电
京迈研3542 Li3PO4靶材 磁控溅射靶材
京迈研3543 LiFePO4 靶材 磁控
高纯度铬溅射靶材(Cr) 纯度99.5%以上(2
京迈研2327 金属镍靶材（Ni）磁控溅射靶
京迈研2352 金属砷靶材（As） 磁控溅射
京迈研 2304锂靶材金属（Li） 磁控溅射靶材
京迈研2324 金属铪靶材（Hf） 磁控溅射靶
京迈研2305 金属铜靶材（Cu）磁控溅射靶
京迈研2307 金属锑靶材（Sb） 磁控溅射靶
京迈研2301 金属铍靶材（Be）磁控溅射靶材
京迈研2330金属锗靶材(Ge) 磁控溅射靶材
京迈研2329 金属锌靶材（Zn） 磁控溅射靶材
京迈研 2306 金属镁靶材（Mg） 磁控溅射
京迈研2316 金属铟靶材（In） 磁控溅射靶
