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京迈研3556 IWO靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3542 Li3PO4靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3543 LiFePO4 靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研2312 金属铬靶材（Cr）磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3414 硫化铜靶材(CuS) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3404 碲化铋靶材(Bi2Te3) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3401 硫化锌靶材(ZnS) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3535 氧化钇靶材(Y2O3) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3407 碳化硼靶材(B4C) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3545 钒酸锂靶材(LiO3V) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3402 氮化铝靶材(AlN) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3541 钴酸锂靶材(LiCoO2) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3540 氧化镧靶材(La2O3) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3412 锑化锌靶材 (Zn3Sb2)磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3408 氮化锆靶材(ZrN) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

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京迈研3530 氧化钆靶材(Gd2O3) 磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

¥600.00

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