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产品规格
可售数量： 200件
京迈研 硒化锗靶材GeSe target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料
【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例 重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
硒化锗(GeSe)是一种新型的二维材料，是一种具有宽波段光致发光光谱和复杂的能带结构以及优良的光电特性优的直接带隙半导体材料，目前在光电领域发展中拥有很好的应用前景。然而研究表明硒化锗具有较高的压电性能，因此，选取硒化锗纳米材料在染料废水降解方面有着光明的前景。
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到再付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。
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京迈研 1946硒化锗靶材GeSe target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料
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200件可售
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