【京迈研3445二硅化钼靶材 MoSi2磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料】价格_批发_厂家_参数_图片_其他无机非金属材料

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京迈研3445二硅化钼靶材 MoSi2磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料

¥1100.00

1-9件

¥1000.00

≥10件

产品规格

可售数量： 200件

北京京迈研材料科技有限公司

采通通 3 年资质认证实名企业

10年

经营年限

北京

所在地区

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产品属性

京迈研3445二硅化钼靶材 MoSi2磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料

【参数说明】

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

【产品介绍】

二硅化钼是一种无机化合物，化学式为MoSi2，为灰色金属固体。不溶于大部分酸。两种原子的半径相差不大，电负性比较接近，其具有近似于金属与陶瓷的性质。二硅化钼具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化。应用于高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极薄膜、结构材料、复合材料的增强剂、耐磨材料、结构陶瓷的连接材料等领域。

【关于我们】

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到再付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

注：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。