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高纯硅溅射靶材 纯度99.99%以上(3N-4N-5N) 圆靶方靶 规格可定
京迈研2315 金属硅靶材(Si) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3553 一氧化硅靶材(SiO) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研 3552 二氧化硅靶材(SiO2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
高纯度硅靶材(Si)溅射 纯度99.9%以上(3N-5N)圆靶 激光沉积可定制
京迈研3608 硅锰合金靶材(Si Mn) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
供应高纯度碳化硅微粉,碳化硅靶材,超细碳化硅,高纯碳化硅 硅微粉
京迈研 3434 碳化硅靶材 SiC磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
京迈研3433 氮化硅靶材 Si3N4磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
京迈研3445二硅化钼靶材 MoSi2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
京迈研3631铝硅合金靶材 AISi合金磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
硅油靶式流量计安装要求 HOMKOM/宏控HKB
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