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京迈研3501 五氧化二钽靶材(Ta2O5) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3424 氮化钽靶材 TaN磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
京迈研3425 碳化钽靶材 TaC磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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