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产品规格
可售数量： 100件
三氧化钼(MoO3)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
白色或苍黄色、透明斜方晶体。密度4.692g/cm3。熔点795℃。沸点1155℃(升华)。加热时变黄色，冷时即复原。即使在低于熔点情况下，也有显著的升华现象。不溶于水，能溶于an水和强碱。与碱溶液和许多金属氧化物反应生成钼酸盐和多钼酸盐。由辉钼矿(MoS2)灼烧或将yan酸加入钼酸铵中析出钼酸后再加热熔烧而制得，亦可直接煅烧钼酸铵得到。用于制金属钼和钼的化合物。
中文名 | 三氧化钼 | 熔 点 | 795ºC |
化学式 | MoO3 | 沸 点 | 1150°C |
分子量 | 143.94 | 密 度 | 4.69g/cm³ |
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位 ，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。
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京迈研3524 三氧化钼靶材(MoO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
¥ 800.00 ~ ¥ 1000.00
¥800.00
100件可售
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