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京迈研3416 二硫化钼靶材(MoS2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

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产品规格

可售数量: 200件

北京京迈研材料科技有限公司

10年

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北京

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10.0

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产品属性

二硫化钼(MoS2)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

二硫化钼,molybdenum disulfide

辉钼矿的主要成分。黑色固体粉末,有金属光泽。化学式MoS2,熔点1185℃,密度4.80g/cm3(14℃),莫氏硬度1.0~1.5。1370℃开始分解,1600℃分解为金属和硫。315℃在空气中加热时开始被氧化,温度升高,氧化反应加快。

二硫化钼不溶于水、稀酸,一般不溶于其他酸、碱、有机溶剂中,但溶于王水和煮沸的浓liu酸。

 

中文名

二硫化钼

      

1185℃

化学式

MoS2

      

黑色

分子量

160.07

     度

4.80g/cm3(14℃)

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位 ,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。


材质 二硫化钼
规格 根据客户要求定制
型号 3416
品牌 京迈研
熔点 1185℃
价格 可面议报价
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