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产品规格
可售数量： 200件
2351 硼(B)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
中文名称：硼
英文别名：Boron，amorphous
CAS号：7440-42-8
元素符号：B
相对原子质量：10.811
性状：黑色或深棕色粉末。在常温时为弱导体，而在高温时导电良好。痕量碳的搀合物能使传导率提高。在空气中氧化时由于三氧化二硼膜的形成，而起自身限制作用，当温度在1000℃以上时，氧化层才蒸发。常温时能与氟反应。以及大多数熔融的金属如铜、铁、锰、铝和钙。不溶于水。相对密度2.350。熔点约2300℃。沸点3658℃。
储存：密封保存。
用途：耐高温合金工业。温度表。催化剂。陶器。植物营养剂。半导体。核化学中用作中子吸收剂。
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位 ，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。
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京迈研2351 金属硼靶材 (B)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
¥ 700.00 ~ ¥ 800.00
¥700.00
200件可售
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