东莞电路靶材 铜银合金靶材 旋转铜管靶 铜背板
旋转铜靶 平面铜靶材 真空溅射靶材 显示面板半导
铜溅射靶材Cu 高致密高纯铜靶 真空PVD镀膜靶
高纯铜靶材99.99% 磁控溅射Cu靶 无氧铜平
高纯铜靶材99.99‑99.999% 磁控溅射靶
京迈研3573钇钡铜氧靶材 YBa2Cu3O7靶
高纯旋转铜靶 平面铜靶材 磁控溅射靶材 电子芯片
4N-5N高纯铜靶材 磁控溅射靶 科研实验镀膜铜
高纯无氧铜溅射靶材 高致密铜靶 芯片面板真空镀膜
高纯铜靶材99.99%‑99.999% 磁控溅射
无氧铜溅射靶材TU1 高致密铜靶 科研实验芯片导
高纯度铜靶(Cu)溅射靶材 纯度99.9%以上(
铜 钽 铝 钛 钴 钨 高纯金属靶材 半导体生产
铜靶材 平面圆形异形靶 半导体PVD镀膜材料 来
京迈研2305 金属铜靶材（Cu）磁控溅射靶
京迈研3522 氧化铜靶材(CuO) 磁控溅
京迈研3414 硫化铜靶材(CuS) 磁控溅
京迈研3523 氧化亚铜靶材(Cu2O) 磁控
12英寸高纯度(6N) 带背板绑定铜靶 溅射镀膜
锡银铜溅射靶材纯度99.9%以上(3N-3N5)
郑科探KT-Z1650CVD 科研铜靶材用郑科探
科研实验室用郑科探KT-Z1650CVD铜靶材用
无氧铜靶材TU1 磁控溅射镀膜靶材 半导体导电薄
高纯无氧铜靶材 磁控溅射PVD镀膜靶材 半导体科
旋转铜靶材 4N5N金属Cu靶 显示面板镀膜用料
京迈研3612 铜铟镓硒CIGS靶材 磁控溅射
京迈研3574 GdBa2Cu3O7钆钡铜氧靶材
京迈研3575 EuBa2Cu3O7铕钡铜氧靶材
京迈研 3564 铋酸铜靶材 CuBi2O4磁
京迈研3576 Bi2Sr2Ca2Cu3O10铋
京迈研3415 硫化亚铜靶材 Cu2S磁控溅
1728京迈研铜锌锡硒靶材Cu22Zn13Sn1
京迈研 1014有色金属环形铜靶材 定制尺寸 纯
京迈研3614 康铜合金靶材 CuNi合金磁控溅
京迈研3624铝铜合金靶材 AlCu合金 磁
京迈研3623黄铜合金靶材 CuZn5合金 磁
京迈研3629铜铟镓合金靶材 CuInGa合金
